納米級制程對水質要求高，低濃度氟離子也會引發(fā)問題：腐蝕晶圓金屬薄膜與絕緣層，導致電路缺陷、良品率下降；同時干擾光刻等后續(xù)工藝精度。

回用水中氟離子超標會形成“污染循環(huán)"，晶圓廠通常將其內控濃度設為0.1mg/L以下，遠超常規(guī)排放標準。

氟化物有毒且易累積，不當排放會污染水土、危害人體健康。國內外已出臺嚴格標準，管控半導體行業(yè)氟離子排放。

國標GB39731-2020規(guī)定，氟化物直接排放限值10mg/L、間接排放20mg/L；地方標準更嚴，以上海DB31/199-2018為例，直接排放限值收緊至8mg/L，還強制在線監(jiān)測設備具備校準、數(shù)據存儲及遠程傳輸功能，超標將面臨重罰。